PI2-MS氧气分析仪 —— 半导体制造超高纯气体监测的精准之选

在半导体制造向先进制程持续突破的进程中，超高纯气体（UHP）的纯度控制已成为决定晶圆良率与产品可靠性的核心要素。即使是十亿分之一（ppb）级别的痕量氧气杂质，也可能在等离子蚀刻、化学气相沉积（CVD）等关键工艺中引发化学反应异常，导致晶圆缺陷、沉积层退化等严重问题，给制造商造成巨大经济损失。Analytical Industries（AII）推出的PI2-MS 系列氧气分析仪，凭借突破性的传感技术与定制化设计，为半导体行业提供了超高精度、低运维成本的痕量氧监测解决方案，成为先进制程气体纯度保障的核心装备。

PI2-MS的核心优势源于AII专属的第二代 Pico-Ion电化学传感器技术，其检测下限低至 2.5 ppb，可实现快速、稳定、精准的实时测量，能敏锐捕捉超高纯气体中极微量的氧气杂质。针对半导体制造的严苛工况，该分析仪采用创新的高洁净样品系统设计：不锈钢接液部件与可选轨道焊接接头，从源头避免二次污染；集成旁路系统可有效保护传感器免受高浓度氧气峰值冲击；密封式传感器支持便捷更换，且无需常规电解质补充，搭配可选零气生成功能，大幅简化校准流程。

在适配性与集成性方面，PI2-MS展现出极强的灵活性，提供台式 / 便携式、面板式、壁挂式等多种安装模式，既能满足固定制程的长期监测需求，也可通过便携式配置实现气体管线的现场抽查验证。设备支持模拟与数字双重通信协议，可无缝融入半导体产线的过程控制系统，与气体分配、净化系统形成高效协同。

相较于氧化锆和顺磁式分析仪，PI2-MS具备显著的成本优势：传感器使用寿命长达12-24 个月，维护需求极少，无需频繁校准，大幅降低了设备全生命周期的运行成本与现场运维难度。其应用场景全面覆盖半导体制造全流程，包括氮气、氢气、氩气等超高纯气体供应管线的纯度验证、制程腔室进料气监测、晶圆加工过程中的气体纯度把控等，同时也适用于特种气体生产、航天国防等高端领域的超高纯气体监测需求。

值得关注的是，AII还构建了完整的痕量杂质监测生态，通过与合作伙伴联合提供水分分析仪、过程气相色谱仪等设备，实现对水分、氦气、硅烷等多种关键杂质的全方位检测，从气体生成、分配到制程应用的全链条保障超高纯气体品质。

随着半导体器件特征尺寸不断缩小，对污染的容忍度持续降低，PI2-MS氧气分析仪以其卓越的检测精度、灵活的配置方案与经济的运维成本，成为半导体行业攻克先进制程气体纯度难题的信赖之选，为产业高质量发展筑牢气体纯度安全防线。